﹝992ET5704701﹞深次微米積體電路製程整合技術
課程名稱 |
(中文) 深次微米積體電路製程整合技術 |
開課系所 |
電子工程所 |
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(英文) Deep Sub-micron Process Integration Technology |
課程代碼 |
ET6302701 |
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授課教師:莊敏宏 |
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學分數 |
3 |
必/選修 |
選修/半學期 |
開課年級 |
研究所 |
教育目標 (請選擇) |
使學生了解積體電路整合製造流程及解決對應之元件及電路問題 |
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先修科目或先備能力: |
電子學概念 半導體元件物理 |
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課程概述與目標 |
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教科書 |
CMOS Devices and Technology for VLSI |
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課程綱要 |
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對應之學生核心能力(請選擇) |
備註 |
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單元主題 |
內容綱要 |
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1 |
簡介、井區形成之考量、元件隔離方式、閘極薄介電層之技術、閘極之選擇、隔離之介電質、源/汲極工程、接觸形成之技術 |
應用進階光電領域知識之能力 研讀及撰寫專業論文之能力 評估分析與獨立解決問題之能力 設計規劃與執行專題及系統整合之能力 研究結果分析與表達之能力 關注技術對智慧財產權與社會變遷影響之能力 |
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教學要點概述: |
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