﹝1001 EO5221701﹞奈米製程原理與應用
課程名稱 |
(中文) 奈米製程原理與應用 |
開課系所 |
光電工程所 |
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(英文) Nanofabrication: Principles and Applications |
課程代碼 |
EO5221701 |
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授課教師:趙良君 |
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學分數 |
3 |
必/選修 |
選修/半學期 |
開課年級 |
研究所 |
教育目標 (請選擇) |
奈米製造技術可分為"由上而下"及"由下而上"兩種方式,其中"由上而下"是利用微影及蝕刻製造奈米結構,"由下而上"則是將奈米結構加以組裝。本課程主旨在於詳述這兩種製造方法,在微影製成技術方面將介紹光學微影系統、光阻特性、成像原理及產率,並詳述非光學微影技術如離子束及電子束曝光系統。在奈米結構成長及分析方面將介紹低維度半導體材料成長原理以及其特性分析,並介少紹其獨特之光學及傳導特性。
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先修科目或先備能力: |
學生須要具備基礎半導體物理知識 |
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課程概述與目標 |
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教科書 |
Principles of Lithography, Harry J. Levinson, 2001. |
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課程綱要 |
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對應之學生核心能力(請選擇) |
備註 |
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單元主題 |
內容綱要 |
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1 |
光學微影原理 |
應用進階光電領域知識之能力 研讀及撰寫專業論文之能力 評估分析與獨立解決問題之能力 設計規劃與執行專題及系統整合之能力 關注技術對智慧財產權與社會變遷影響之能力 具國際觀及終身學習之能力
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2 |
電子束及離子束直接描繪系統 |
應用進階光電領域知識之能力 關注技術對智慧財產權與社會變遷影響之能力 |
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3 |
半導體材料奈米結構成長及分析 |
應用進階光電領域知識之能力 關注技術對智慧財產權與社會變遷影響之能力 |
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4 |
奈米結構光學特性 |
應用進階光電領域知識之能力 研讀及撰寫專業論文之能力 評估分析與獨立解決問題之能力 團隊中領導、管理及整合溝通之能力 研究結果分析與表達之能力 具國際觀及終身學習之能力 |
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5 |
奈米結構傳輸特性 |
應用進階光電領域知識之能力 研讀及撰寫專業論文之能力 評估分析與獨立解決問題之能力 團隊中領導、管理及整合溝通之能力 研究結果分析與表達之能力 具國際觀及終身學習之能力 |
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教學要點概述:幫忙學生瞭解最新奈米製造技術並培養國際觀及終身學習之能力. |
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